草書必修的40個字！
1.龍
右折轉挑鉤雖極盡張揚，若無右上點落重下，仍不足以鎮壓。
2.愛
這也是簡下的上下結構，但無論如何簡都須有兩筆在中宮附近作上下對應勢。
3.各
上下作筆,將轉近和交叉控制在中軸線附近，左右顧應，將盡處右逸左回，正教動靜，相應成勢。
4.曠
左為輔者簡且束，環過後與右作牽引，勿使離散。
5.雷
草書中的上下結構一般不作簡單的上覆下承關係處理，多依行氣的需要稍作挪動，此處「田」即不為「雨」頭所覆，右挪。
6.嶙
筒且弱的左部依與右部的左肩處,且牽引相合,在主輔合宜中使繁簡無跡。
7.樓
左右結構極少左右平分和上下齊平者，此字左右雖不平分，上下初似齊平，用右下向左下的弧引破不平，呈左輔右主式。
8.攝
右雖為主， 但筆畫並不十分繁複,用一兩處折、環的密集和末畫的左下引張其勢。
9.樹
樹部的折、環和右下大弧引出以及末點的右上遠拋，都是張揚右勢,使之不至因左「木」的寬展而失主位。
10.書
直畫縱貫中宮而過，小弧環不離，收束處再作回護使得穩正。
11.曉
除了簡束的左部環過牽引不使離散外，還須使環過造成的空間大小與右相諧,使之雖簡而不弱。
12.亦
下三點承上，在注意離合關係的同時，還須留意用首田尾二點控制住左右寬度。
13.音
「日」簡作左右環顧的點，不足以承上，將」立」誇張縱下，這種簡下的方法在草書的上下結構中時見。
14.至
左右盤旋全仗底下一畫平正穩承,右點的「微調」作用也不能小初。
15.眾
下三點為上覆，以緊結勻布，不放肆為宜。
16.被
「礻」右弧斜傾欹，左宜穩正，作時留意起手一點與直畫首尾相顧即無慮。
17.層
「屍」有縱橫二式，此處所掩之「曾」為上目下結構，故「屍體」宜作縱勢。
18.初
「礻」右甚簡約左雖為偏旁，可張揚其勢，起手一點遠落，而後盤旋右引,但仍須為輔，雖張揚而不奪主。
19.店
以下六字均為左上掩個，一最基本的原則是護，而不可覆。所謂護，即既不可使所掩者離散，又不可因覆罩使所掩者窒塞。
20.居
「屍」作法筒如「廠」，一筆帶過，引出所掩者。作時留意帶過引發時的勢向和提按變化,而且不可忽視主次關係。
21.歷
「廠」所掩者寬展，故宜作橫式。由橫畫起筆處作垂直線，一般多落於撇畫的中腰處。
22.廬
「廣」頭左上掩，由撇畫引出所掩者，其勢自然能合,右下在欲離還合的盤旋折轉中須留意其空間疏密。
23.原
「廠」在這裡也作縱勢，其基本原則是由橫畫的起筆至撇畫的收止處作垂直線，起止相去不遠為宜。
24.欣
左右結構以牽引相接,牽引一般由重而輕，引過後務必變化節奏，左大右小的結構尤其不可漸次輕弱。
25.妙
在呈橫展寬大勢，右借勢牽引帶過,縱下環護,末畫左下逸，引發下一字。左大右小的結構多用此法。
26.終
左畫雖簡，重而展之，帶過使右呈環護依附勢。
27.就
左大右小,左重右輕，已成不變之勢,用右上一點的遠拋張右勢，也是此類結構的常法。但留意點出筆內收，勿散落。
28.亂
右簡至極,作時須加強折轉的頓挫，加之下部呈左右合一，故不顯單薄。
28.新
左重且大,右簡且輕，此類結構使大者束之，簡者則不宜展之，一展便散,只須將末畫左下逸出抱過即可。
29.豫
右畫雖繁，輕且束之，因有環弧顧應,不作背勢。作時留意左右牽引須交待清楚，不可糾結，造成迫塞。
30.野
在橫展且重,右縱狹而輕，為使之不生衝突，在結構上可使上齊;為使之不因齊而板,右下作崎嶇式即可。
31.森
「品」形的結構多能穩正，也最易獃滯，作時只須將其上部正落，下部則應縱肆破板，然所謂縱肆仍須在上部的管束之中。
32.壑
這是個變異的「品」形結構，再變為左右結構，將左上誇張縱下，下部稍作左挪即可。
33.避
將一個左下包承的結構變易成上下結構,這就需要被包承的部分不作右挪，正落居中，末畫雖未包,但仍須有承意。
36.囊
上中下疊結構一般多採用束上展下式，此處則是上下松展而中部緊結，這便較上束下展者更顯節奏豐富。
37.蠡
儘管上部引領中正不欹，但下部的弧環由左下而右上，其勢甚險，故用末畫向左下去救正，化險為夷。
38.壁
此類倒「品」形結構不同的只是將下部正落，上部可作縱逸以破板。
39.欲
這是將一個左右結構變易成上下結構的字，而右「欠」雖在下，仍不必為上所覆，稍稍右展，呈依附勢即可。
40.寮
家上展中束、下又一展的結構固然豐富，但作時更須留意展束節奏變化時保持中軸穩正。此處還須留意上點和下部中點顧應。
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